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[求助] cAFM 成像问题

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stsolong posted on Wed, Feb 13 2013 4:00 AM

大家好,

我使用cafm的时候,height image简直是一塌糊涂,直接导致current image没有办法对照形貌图进行分析。

之前用Tapping Mode(一般的OTESPA 探针)扫描过同样的样品,形貌像还是挺清晰的,没有白线。样品表面结构大致是这样的:平坦的表面上有突起的粒子,高度大约150-200nm,尺寸大约100nm。粒子是从substrate里面长出来的,不会在表面移动。 这样的形貌对于cafm 的 contact mode是不是个问题啊?

 

CAFM用的是SCM-PIC探针,仪器是D3100, NanoScope4. 请问怎样才能得到好的height image? 即便设定lookahead gain=0.7,也没有什么改观。

另:买了盒RMN tip,发现不好用。基本上每回engage tip的时候都失败,换回scm-pic探针就好了。 即使下针成功,得到的图像还不如scm-pic测的好(基于其他样品测试结果)。不知道是怎么回事。

 

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一般来说以contact模式做CAFM如果看到形貌图很差,有以下几个原因:1)样品过软或者过粘,这种情况在旧的机器上只能够通过使用更软的探针或者降低探针样品间的作用力,并适当增加gain来尽量改善,新的机器上有最新的PFTUNA技术可以很好的解决这个问题;2)样品形貌会受到电压的影响,这种情况可以通过打开interleave mode,在主扫描线样品不加电压只收集形貌图而在interleave扫描线给样品加电压只收集电流图。最好您可以把扫描的cAFM的原始数据图以及所使用的参数发到我的邮箱看一下: hao.sun@bruker-nano.com.

RMN的探针如果进针失败,如果是在contact mode下,您可以试着将deflection setpoint设置得更高一些。

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一般来说以contact模式做CAFM如果看到形貌图很差,有以下几个原因:1)样品过软或者过粘,这种情况在旧的机器上只能够通过使用更软的探针或者降低探针样品间的作用力,并适当增加gain来尽量改善,新的机器上有最新的PFTUNA技术可以很好的解决这个问题;2)样品形貌会受到电压的影响,这种情况可以通过打开interleave mode,在主扫描线样品不加电压只收集形貌图而在interleave扫描线给样品加电压只收集电流图。最好您可以把扫描的cAFM的原始数据图以及所使用的参数发到我的邮箱看一下: hao.sun@bruker-nano.com.

RMN的探针如果进针失败,如果是在contact mode下,您可以试着将deflection setpoint设置得更高一些。

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谢谢您孙工,我整理下尽快发给您!

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